【新華正版 現貨當日發】光學光刻和極紫外光刻 光刻機 納米電子
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本書在介紹光刻技術應用上,作者涵蓋了全面又豐富的內容,在論述光刻技術的物理機制和數學模型時,本書采用了完整但不繁瑣的方法,增加了該書的可讀性。在論述光刻技術的共性內容後,該書專門開闢章節,較為詳細地介紹了xianjin的極紫外光刻技術的特點和難點,從理論上揭示了極紫外光刻的技術奧秘。該書內容全面、完整、詳實、新穎,集這四個特點於一書,目前尚沒有一本關於光刻技術方面的書可以與之媲美。該書凝聚了作者30多年光刻領域科研和教學之精華,對於從事芯片領域的專業技術人員,這是一本手冊性的內容豐富的參考書。
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