內容簡介

為了應對我國在集成電路領域,尤其是光刻技術方面嚴重落後於發達國家的局面,破解光刻制造設備、材料和光學鄰近效應修正軟件幾乎接近依賴進口的困境,作為從事光刻工藝研發近 20 年的資深研發人員,作者肩負著協助光刻設備、材料和軟件等產業鏈共同研發和發展的責任,將近 20 年的學習成果和研發經驗彙編成書,建立聯繫我國集成電路芯片的研發和制造,設備、材料和軟件的研發,以及大專院校、科研院所的科學技術研究、人纔培養的一座橋梁。本書以光刻工藝為主線,有機地將光刻設備、光刻材料、光刻成像的理論計算、光刻工藝中各種建模思想和推導、芯片制造的技術發展要求以及對光刻工藝各項參數的要求緊密地聯繫在一起,給讀者一個整體的圖景。《衍射極限附近的光刻工藝》可供光刻技術領域科研院所的研究人員、大專院校的教師和學生、集成電路工廠的工程技術人員等參考。