內容簡介
呂反修主編的《金剛石膜制備與應用（下）》比較全面、繫統、深入地論述了化學氣相沉積（CVD）金剛石膜的制備、組織結構和性能表征，金剛石膜化學氣相沉積理論，以及在電學（電子學）、熱學、光學、聲學、電化學、力學等領域的應用，在高超聲速、外太空、核和*端摩擦磨損環境下眾多高新技術應用研究進展和市場前景。本書分六篇，共29章，**篇，金剛石膜的制備；第二篇，金剛石膜組織結構和性能表征；第三篇，金剛石膜沉積理論；第四篇，金剛石膜的應用；第五篇，納米金剛石膜制備與應用；第六篇，金剛石相關材料。
本書可供相關專業大專院校師生，研究院所以及相關領域企業的管理及應用與研發人員參考。
