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  • 光學薄膜技術(第2版) 盧進軍 著作 物理學專業科技 新華書店正版
    該商品所屬分類:醫學 -> 工業技術
    【市場價】
    265-384
    【優惠價】
    166-240
    【作者】 盧進軍劉衛國潘永強 
    【出版社】電子工業出版社 
    【ISBN】9787121135378
    【折扣說明】一次購物滿999元台幣免運費+贈品
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    內容介紹



    書名:光學薄膜技術(第2版光電信息科學與工程類專業規劃教材普通高等教育十二五規劃教材) 光學薄膜技術(第2版光電信息科學與工程類專業規劃教材普通高等教
    ISBN編號:9787121135378
    是否是套裝:否

    作者:盧進軍//劉衛國//潘永強
    代碼:45
    出版社名稱:電子工業出版社

    開本:16

        
        
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    光學薄膜技術(第2版)

    作  者: 盧進軍 著作
    size="731x8"
    定  價: 45
    size="731x8"
    出?版?社: 電子工業出版社
    size="731x8"
    出版日期: 2011年07月01日
    size="731x8"
    頁  數: 234
    size="731x8"
    裝  幀: 平裝
    size="731x8"
    ISBN: 9787121135378
    size="731x8"
    主編推薦

    《光學薄膜技術(第2版)》(作者盧進軍、劉衛國、潘永強)新增了一些薄膜新技術和新應用方面的內容:第2章中增加了顯示器用防眩光減反射膜;第3章中增加了等離子體增強化學氣相沉積技術;新增了第6章光學薄膜特性測試與分析和第7章功能薄膜及其應用。結合教學需要,每章都配置了一些思考題與習題,僅供教學參考使用。

    目錄
    章 薄膜光學特性計算基礎
    1.1 引言
    1.2 單一界面的反射率和透射率
    1.3 單層介質膜的反射率
    1.3.1 單層介質膜與基底組合的等效光學導納
    1.3.2 單層介質膜的光學特性
    1.4 多層介質膜的反射率和透射率
    1.5 金屬薄膜的光學特性
    1.6 光學零件的反射率和透射率
    思考題與習題
    第2章 介質膜繫及其應用
    2.1 減反射膜
    2.1.1 單層減反射膜
    2.1.2 雙層減反射膜
    2.1.3 多層減反射膜
    2.1.4 高折射率基底的減反射膜
    2.1.5 含吸收層的防眩光減反射膜
    2.2 高反射膜
    2.2.1 周期性多層膜堆的反射率
    2.2.2 (LH)s周期性多層膜堆的高反射帶
    2.2.3 高反射帶的展寬
    2.2.4 傾斜入射時的高反射帶
    2.2.5 金屬反射膜
    2.3 中性分束膜
    2.3.1 介質中性分光鏡
    2.3.2 偏振中性分束稜鏡
    2.3.3 金屬中性分光鏡
    2.4 截止濾光片
    2.4.1 多層膜堆的通帶透射率
    2.4.2 通帶波紋的壓縮
    2.4.3 通帶的展寬和壓縮
    2.4.4 截止波長和截止帶中心的透射率
    2.4.5 截止濾光片傾斜使用時的偏振效應
    2.4.6 截止濾光片的應用
    2.5 帶通濾光片
    2.5.1 法布裡-珀羅濾光片的特性
    2.5.2 全介質法布裡-珀羅濾光片
    2.5.3 誘導透射濾光片
    2.5.4 法布裡-珀羅濾光片的最新應用
    2.5.5 寬帶通濾光片
    2.6 偏振分束膜
    2.6.1 膠合稜鏡介質偏振分光膜
    2.6.2 平板介質偏振分光鏡
    2.6.3 金屬柵偏振分光鏡
    2.7 消偏振膜繫
    2.7.1 單波長消偏振
    2.7.2 受抑全反射寬波段消偏振分光鏡
    2.7.3 金屬-介質組合膜堆寬波段消偏振
    2.7.4 消偏振截止濾光片
    思考題與習題
    第3章 光學薄膜制造技術
    3.1 光學真空鍍膜機
    3.2 真空與物理氣相沉積
    3.3 真空獲得與檢測
    3.3.1 真空泵
    3.3.2 低溫冷凝泵
    3.3.3 PVD使用的高真空繫統
    3.3.4 真空度的檢測
    3.4 熱蒸發
    3.5 濺射
    3.5.1 輝光放電濺射
    3.5.2 磁控濺射
    3.5.3 離子束濺射
    3.5.4 離子、靶材與濺射率
    3.6 離子鍍
    3.7 離子輔助鍍
    3.8 等離子體增強化學氣相沉積
    3.8.1 PECVD過程的動力學
    3.8.2 PECVD裝置
    思考題與習題
    第4章 光學薄膜制造工藝
    4.1 光學薄膜器件的質量要素
    4.2 影響膜層質量的工藝要素
    4.2.1 影響薄膜器件質量的工藝要素及作用機理
    4.2.2 提高膜層機械強度的工藝途徑
    4.2.3 控制膜層折射率的主要工藝途徑
    4.2.4 獲得致密膜層的方法
    4.3 獲得精確厚度的方法
    4.3.1 目視法
    4.3.2 極值法
    4.3.3 光電定值法
    4.3.4 任意膜厚的單波長監控
    4.3.5 石英晶振法
    4.3.6 寬光譜膜厚監控
    4.4 獲得均勻膜層的方法
    4.4.1 影響膜層厚度均勻性的因素
    4.4.2 獲得均勻厚度膜層的途徑
    思考題與習題
    第5章 薄膜材料及其性質
    5.1 薄膜的微觀結構與性質
    5.1.1 薄膜結構的材料學基礎
    5.1.2 薄膜的光學性質
    5.1.3 薄膜的力學性質
    5.2 常用光學薄膜材料
    5.2.1 金屬薄膜
    5.2.2 介質薄膜
    5.2.3 特殊材料
    思考題與習題
    第6章 光學薄膜特性測試與分析
    6.1 光學薄膜特性的檢測標準
    6.1.1 國標(JB/T 6179—92)中規定的光學零件鍍膜的分類、符號及標注
    6.1.2 國標(JB/T 8226—1999)中規定的光學零件鍍膜檢測項目
    6.1.3 國標(JB/T 8226—1999)中規定的光學零件鍍膜試驗方法
    6.1.4 國標(JB/T 8226—1999)中規定的光學零件鍍膜檢驗規則
    6.2 薄膜透射率、反射率的測量
    6.2.1 光譜儀的基本原理
    6.2.2 薄膜透射率的測量
    6.2.3 薄膜反射率的測量
    6.3 薄膜光學常數和厚度的測量
    6.3.1 光度法確定薄膜的光學常數
    6.3.2 橢圓偏振法確定薄膜的光學常數
    6.3.3 薄膜厚度的測量
    6.4 薄膜吸收和散射的測量
    6.4.1 薄膜吸收損耗的測量
    6.4.2 薄膜散射損耗的測量
    6.5 薄膜激光損傷閾值的測量
    6.5.1 薄膜激光損傷的機理分析
    6.5.2 薄膜激光損傷閾值的測量標準及方法
    6.5.3 薄膜抗激光損傷閾值測量中應注意的幾個問題
    6.6 薄膜非光學特性的檢測
    6.6.1 薄膜附著力的測量
    6.6.2 薄膜應力的測量
    6.6.3 薄膜的環境試驗
    6.6.4 薄膜結構和化學成分檢測
    思考題與習題
    第7章 功能薄膜及其應用
    7.1 透明導電薄膜
    7.1.1 透明導電薄膜的分類
    7.1.2 透明導電薄膜的基本特性
    7.1.3 透明導電氧化物薄膜的制備
    7.1.4 透明導電氧化物薄膜的特性測試
    7.1.5 透明導電氧化物薄膜的應用
    7.2 太陽能薄膜
    7.2.1 太陽能光熱轉換薄膜
    7.2.2 太陽能光電轉換薄膜
    7.3 超硬薄膜材料
    7.3.1 金剛石薄膜
    7.3.2 類金剛石(DLC)薄膜
    7.3.3 立方氮化硼薄膜
    7.3.4 CNz薄膜
    7.3.5 其他硬質薄膜
    思考題與習題
    附錄A常見薄膜材料參數
    參考文獻
    內容虛線

    內容簡介

    size="789x11"

    本書繫統地介紹薄膜光學的基本理論和器件設計的基本方法,適當地介紹一些新設計方法、新器件設計、新工藝技術。全書共7章,主要內容包括:薄膜光學基礎,器件設計方法,薄膜制造基本方法,高質量光學薄膜器件的工藝方法,光學薄膜材料,光學薄膜特性測試,功能薄膜及其應用。

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