| | | 固體薄膜的光學表征(精)者_奧拉夫·澤爾捷克米洛斯拉夫國防工業 | 該商品所屬分類:圖書 -> ε | 【市場價】 | 1180-1712元 | 【優惠價】 | 738-1070元 | 【作者】 | 者奧拉夫·斯坦澤爾捷克米洛斯 | 【出版社】 | 國防工業出版社 | 【ISBN】 | 9787118123173 | 【折扣說明】 | 一次購物滿999元台幣免運費+贈品 一次購物滿2000元台幣95折+免運費+贈品 一次購物滿3000元台幣92折+免運費+贈品 一次購物滿4000元台幣88折+免運費+贈品
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出版社:國防工業出版社 ISBN:9787118123173 商品編碼:10039804620152 包裝:精裝 開本:16開 出版時間:2021-07-01 頁數:393 代碼:198 作者:者_奧拉夫·斯坦澤爾捷克米洛斯
" 商品基本信息,請以下列介紹為準 | 商品名稱: | 固體薄膜的光學表征(精) | 作者: | 編者_(德)奧拉夫·澤爾//(捷克)米洛斯拉夫·奧裡達爾|責編_馮晨|譯者_劉華松//劉丹丹 | 代碼: | 198.0 | 出版社: | 國防工業出版社 | 出版日期: | 2021-07-01 | ISBN: | 9787118123173 | 印次: | 1 | 版次: | 1 | 裝幀: | 精裝 | 開本: | 16開 |
內容簡介 | 本書的主要內括:部分為引論與建模括:引論,光學和非光學相互結合的方法表征多孔氧化鋯樣品,寬光譜區薄膜表征的通用色散模型,從頭計算預測光學特性);第二部分為分光光度法和橢圓偏振光譜法括:薄膜的反射光譜成像法光學表征,成像分光光度法的數據法,單層膜與多層膜的在線和離線分光光度法);第三部分為缺陷和波紋的薄膜表征括:缺陷薄膜的光學表征,光學薄膜的掃描探針顯微技術表征,共振波導光柵結構,深紫外線柵偏振片的偏振控制)。全書既討論了表征技術的優點也沒有規避表征技術的缺點。本書對於固體薄膜技術領域內的應用基礎研究和工程技術研究具有重要的參考價值,適合從事薄膜技術研究和應用領域的工程技術人員、研究生和高年級本科生閱讀和使用,參與固體薄膜表征任務的科學家或工程師都能從本書中獲益。 |
目錄 | 部分 引論與建模 第1章 引論 1.1 個考慮 1.2 薄膜表征和質量控制 1.3 本書的結構 第2章 多孔氧化鋯樣品的表征作為光學和非光學表征方法相互作用的例子 2.1 光學與非光學的薄膜表征 2.2 基於強度測量的光學表征 2.3 表征示例:光學和非光學方法之間的相互作用 2.3.1 光學常數 2.3.2 光學常數與孔隙率的關繫:混合模型 2.3.3 多孔薄膜的應用 2.4 結論 參考文獻 第3章 寬光譜區薄膜表征的通用色散模型 3.1 簡介 3.2 理論背景 3.2.1 經典模型 3.2.2 基於量子力學的模型 3.2.3 展寬 3.激發的色散模型 3.3.1 聲子吸收 3.3.2 價電子激發 3.3.3 局域態的電子躍遷 3.3.4 自由栽流子的貢獻 3.3.5 核芯電子激發 3.4 結論 參考文獻 第4章 從頭計算預測光學特性 4.1 引言 4.2 能帶結構計算 4.2.1 量子力學波函數 4.2.2 密度泛函理論 4.2.3 交換一關聯泛函 4.2.4 DFT 4.3 光學特性 4.3.1 Bethe-Salpeter方程 4.3.2 一般工作流程 4.4 復雜繫統建模 4.4.1 特殊的準隨機結構 4.4.2 模擬退火 4.4.3 例:TixSi1-xO2的折射率 4.5 關於解釋結果的幾點說明 4.5.1 預測與實驗 4.5.2 電子與光學帶隙 4.6 結論 參考文獻 第二部分 分光光度法和橢圓偏振光譜法 第5章 薄膜的反射光譜成像法光學表征 5.1 引言 5.2 反射光譜成像法發展和開發的動機 5.3 正入射下非顯微成像光譜反射測量技術簡介 5.4 ISR技術實驗裝置 5.5 成像反射光譜儀 5.5.1 寬光譜區成像光譜反射儀 5.5.2 空間分辨率增強的成像反射光譜儀 5.6 數據采集 5.7 成像反射光譜儀的主要特點 5.8 成像反射光譜儀的方法 5.8.1 單像素ISR法作為獨立方法 …… 第6章 成像分光光度法的數據法 第7章 單層膜與多層膜的在線和離線分光光度法表征Ⅰ:基礎 第8章 單層和多層膜的在線和離線分光光度法表征Ⅱ:實驗技術和應用實例 第9章 分層繫統的橢圓偏振測量 第三部分 缺陷和波紋的薄膜表征 第10章 缺陷薄膜的光學表征 第11章 光學薄膜的掃描探針顯微技術表征 第12章 共振波導光柵結構 第13章 深紫外線柵偏振片的偏振控制 第四部分 散射和吸收 第14章 光學薄膜的粗糙度與散射 第15章 光學薄膜中的吸收和熒光測量 第16章 光學薄膜表征的環形腔衰蕩技術
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