《x射線熒光光譜分析(第二版)》繫統闡述了x射線熒光光譜分析(xrfs)基本原理,介紹了xrfs光譜儀及主要組成部件,特別是x射線激發源和x射線探測器的工作原理,強調了新型x射線激發源和探測器如聚焦毛細管x射線透鏡、硅漂移探測器和超導探測器等的研究進展和特征性能。對開展xrfs分析所需的定性與定量分析素間基體校正、化學計量學計算等做了較詳細的描述,評介了各方法的特點、局限及選用原則。在xrfs分析中,樣品制備技術具有特殊的重要性,因此單獨成章,以使讀者對其有深刻認識並能靈活運用。在儀器與維護方面,分析了不同儀器的特性,提供了一定的具有共性的儀器校正方法、日常維護知識和故障判斷原則。近年來,微區xrfs技術發展迅速,因此《x射線熒光光譜分析(第二版)》也分別介紹了同步輻射x射線熒光與光譜分析技術與應用、微區x射線熒光光譜分析與應用。同時還篇幅綜述了xrfs在地質、冶金、材料、考古、生等