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  • 光學真空鍍膜技術(光學鍍膜基礎 膜繫設計 光學薄膜制備技術 光
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    353-512
    【優惠價】
    221-320
    【作者】 石澎馬平 
    【出版社】機械工業出版社 
    【ISBN】9787111693567
    【折扣說明】一次購物滿999元台幣免運費+贈品
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    內容介紹



    出版社:機械工業出版社
    ISBN:9787111693567
    商品編碼:10047426637625

    品牌:文軒
    出版時間:2022-02-01
    代碼:46

    作者:石澎馬平

        
        
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    作  者:石澎馬平 著
    /
    定  價:46
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    出 版 社:機械工業出版社
    /
    出版日期:2022年02月01日
    /
    頁  數:144
    /
    裝  幀:平裝
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    ISBN:9787111693567
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    主編推薦
    本書將光學真空鍍膜技術根據工序分解成三個大的模塊項目,項目中列出典型工作任務,基於工作過程和典型工作任務設置、選取教學內容,典型工作任務設計相關的實訓環節,使課程內容與職業崗位要求一致。同時,將作者主編的國家職業標準《光學真空鍍膜工》中的內容融入各項工作任務中,工作任務與職業標準無縫對接。1、針對高職高專的培養目標和職業教育對像的特點,突破傳統教材的編寫特點,引入了以職業能力為目標,以項目設計為載體,以工作過程為指導思想的編寫思路。2、與國家職業標準《光學真空鍍膜工》緊密掛鉤,本書作者即等
    目錄
    ●前言第1章 光學鍍膜基礎11.1光學薄膜理論基礎11.1.1平面電磁波在單一界面上的反射和折射11.1.2菲涅爾公式21.1.3光學薄膜特性的理論計算81.2光學薄膜設計121.2.1增透膜的設計121.2.2高反膜的設計161.2.3分光膜的設計181.2.4干涉濾光片211.3光學薄膜材料261.3.1金屬薄膜材料261.3.2介質和半導體薄膜材料281.3.3金屬膜與介質膜的比較33第2章光學薄膜制備技術342.1真空及真空設備342.1.1真空技術知識及主要術語定義342.1.2獲得真空所需的設備402.1.3真空的測量472.2熱蒸發鍍膜工藝512.2.1熱蒸發鍍膜機理介紹512.2.2熱蒸發鍍膜工藝分類612.2.3離子束輔助沉積工藝介紹692.2.4影響熱蒸發鍍膜質量的工藝參數742.3濺射鍍膜工藝852.3.1濺射鍍膜機理介紹852.3.2濺射鍍膜工藝分類862.3.3影響濺射鍍膜質量的工藝參數114第3章光學薄膜檢測技術1183.1光學薄膜反射率和透過率測量1183.1.1光譜分析測試繫統原理1183.1.2薄膜透過率測量1203.1.3薄膜反射率測量1213.1.4影響測量準確度的因素1223.2光學薄膜厚度的測量1233.2.1干涉法測量薄膜厚度1233.2.2輪廓法測量薄膜厚度1243.2.3其他測量方法1253.3光學薄膜激光損傷閾值測量1253.3.1光學薄膜損傷測量標準及判定1253.3.2幾類激光損傷閾值測量方法介紹1253.3.3激光損傷測試裝置1263.3.4 1 on 1損傷測試標準過程1273.4光學薄膜其他參數測量1283.4.1薄膜的吸收和散射測量1283.4.2薄膜材料折射率測量1313.4.3薄膜散射測量1333.4.4薄膜折射率測量135參考文獻138
    內容簡介
    近些年,隨著手機、汽車、安防監控等光學鏡頭終端市場的規模化、持續性擴張,對光學薄膜的需求也越來越多,光學真空鍍膜技能型人纔供不應求的局面日益凸顯。本書以弱化理論、側重實踐與技能為原則,按照工序將光學真空鍍膜技術分為光學鍍膜基礎與膜繫設計、光學薄膜制備技術、光學薄膜檢測技術三部分,對應光學薄膜制備的三個核心流程,基於工作過程和典型工作任務和內容,使書中內容與職業崗位要求相匹配。本書可作為高職、中職院校光學相關專業的課程教材,也可供相關領域的工程技術人員學習參考。



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