●第1章緒論
●1.1研究背景與意義
●1.2典型光纖模問干涉器件的研究現狀與發展趨勢
●1.2.1典型光纖模間干涉器件一：光纖光柵
●1.2.2典型光纖模間干涉器件二：錐形光纖
●1.3實現新型光纖模間干涉器件的微納米工藝技術
●1.3.1光纖表面和表層微納米薄膜工藝
●1.3.2微納米光纖的加工工藝
●1.4本書的研究思路與主要研究內容
●1.4.1研究思路
●1.4.2本書結構安排
●參考文獻
●第2章覆蓋微納米高折射率塗敷層的長周期光纖光柵的理論分析與模擬計算
●2.1四層模型LPFG的模式耦合
●2.1.1各包層模的有效折射率和傳輸常數
●2.1.2耦合繫數和耦合常數
●2.1.3四層模型LPFG的模式耦合方程
●2.1.4諧振條件
●2.2四層模型LPFG的數值計算和模擬分析
●2.2.1四層模型LPFG的透射譜的模擬計算方法
●部分目錄
微型化與集成化是近年來優選光子技術和器件的重要發展方向，微納米工藝技術是實現光子器件微型化與集成化的基礎。借助微納米工藝技術，人們可以按照需求來設計制備具有優異性能的光纖微納米結構和器件。同時，理論和實驗的研究表明，隨著功能結構尺度的減小，光纖器件的特性及性能等都表現出與傳統宏觀結構器件顯著不同的特點。這些特異的物理性質具有廣闊的實際應用和理論研究前景。本書以此為出發點，從理論和實驗上分析了兩種具有代表性的基於微納米尺度結構的新型光纖模間干涉器件，包括其模式與耦合特性和相關微納米工藝技術，書中詳細研究和探討了它們的工作原理、制備過程以及功能特性，同時通過與同類傳統尺寸結構光纖器件的比較驗證了基於微納米技術的光纖模間干涉器件在性能上的優越性
