作 者:(美)加裡·塞特爾(G.S.Settles) 著 葉繼飛 等 譯
定 價:118
出 版 社:國防工業出版社
出版日期:2018年08月01日
頁 數:338
裝 幀:平裝
ISBN:9787118115772
● 第1章歷史背景
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●1.117世紀
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●1.218世紀
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●1.319世紀
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●1.420世紀
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●第2章基本概念
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●2.1非均勻介質中光的傳播
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●2.2紋影的定義
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●2.3紋影與陰影方法的區別
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●2.4直接陰影法
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●部分目錄
本書介紹了紋影與陰影技術的相關概念和具體應用。重點介紹了經典的托普勒紋影技術、大視場聚焦紋影技術、陰影技術，以及一些特種紋影技術和定量評價方法，介紹了紋影和陰影技術在應用過程中所遇到的繫統配置、構成和成像等實際問題，很後舉例說明了其在固體、液體和氣體等多種不同場合和領域的具體應用。本書的讀者對像是流動顯示專業領域內的研究生和相關領域的研究人員。
(美)加裡·塞特爾(G.S.Settles) 著 葉繼飛 等 譯
加裡·塞特爾，生於1949年，在田納西州東部大煙山地區的一個農場裡長大。Settles對流體力學和光學很感興趣，十幾歲時便開始動手實踐：設計的小型亞聲速和超聲速風洞結構在1967年的靠前科學展覽會上獲獎。在美國海軍軍械實驗室及美國國家航空航天局（NASA）艾姆斯研究中心的實習經歷增加了Settles的工程與實驗能力。在波音公司，Settles有幸參加了波音747客機以及SST超聲速運輸機的空氣動力學研究工作。
