●第1章 全息技術概述
1.1 全息技術及其原理
1.2 全息技術應用
1.2.1 裸眼全息顯示
1.2.2 高密度數據存儲
1.2.3 全息防偽
1.2.4 全息傳感
1.2.5 全息光刻
1.2.6 全件
1.2.7 增材制造
1.2.8 全息微操控
1.2.9 超快成像
1.3 全息記錄材料
1.3.1 鹵化銀乳膠
1.3.2 重鉻酸鹽明膠
1.3.3 光降解高分子材料
1.3.4 光導熱塑性材料
1.3.5 光折變材料
1.3.6 光聚合材料
1.3.7 光致異構化材料
1.3.8 超表面材料
1.4 全息記錄材料的性能評價
1.4.1 衍射效率與光散射損失
1.4.2 角度選擇性與折射率調制度
1.4.3 感光靈敏度
1.4.4 動態存儲範圍
參考文獻
第2章 模壓全息高分子材料
2.1 模壓全息高分子材料的制備原理
2.2 模壓全息高分子材料的分類與結構
2.2.1 不干膠型模壓全息高分子材料
2.2.2 防揭型模壓全息高分子材料
2.2.3 燙印型模壓全息高分子材料
2.3 燙印型模壓全息高分子材料的組成
2.3.1 基膜
2.3.2 剝離層
2.3.3 全息記錄層
2.3.4 反射層
2.3.5 熱熔膠層
2.4 燙印型模壓全息高分子材料的制備工藝
2.4.1 制作金屬模版
2.4.2 模壓復制全息圖
2.4.3 鍍反射層
2.4.4 塗布熱熔膠
2.4.5 分切
2.5 燙印型模壓全息高分子材料的燙印工藝
2.6 模壓全息高分子材料的性能調控
2.6.1 全息記錄層改性
2.6.2 全息記錄層的性能調控
2.7 模壓全息高分子材料的應用與展望
參考文獻
第3章 全息光折變高分子材料
3.1 光折變原理
3.2 全息光折變高分子材料的組成
3.2.1 光敏劑
3.2.2 光電導體
3.2.3 生色團
3.2.4 高分子基體
3.2.5 增塑劑
3.3 全息光折變高分子材料的表征
3.3.1 二波耦合
3.3.2 四波混頻
3.4 全息光折變高分子材料的性能調控
3.4.1 通過光敏劑調控
3.4.2 通過光電導體調控
3.4.3 通過生色團調控
3.4.4 通過高分子基體調控
3.4.5 通過增塑劑調控
3.4.6 通過溫度調控
3.4.7 通過預處理工藝調控
3.5 全息光折變高分子材料的應用
3.5.1 實時3D顯示
3.5.2 可擦寫數據存儲
3.5.3 光學相關性檢測
3.5.4 新奇濾波器
3.5.5 無損檢測
3.6 全息光折變高分子材料的發展展望
參考文獻
第4章 息高分子/液晶復合材料
4.1 全息高分子/液晶復合材料的成型原理
4.2 全息高分子/液晶復合材料的組成
4.2.1 光引發劑
4.2.2 單體
4.2.3 液晶
4.3 全息高分子/液晶復合材料的性能參數
4.3.1 衍射效率
4.3.2 驅動電壓
4.3.3 對比度
4.3.4 響應時間
4.4 全息高分子/液晶復合材料的結構與性能調控
4.4.1 光引發劑的影響
4.4.2 單體的影響
4.4.3 液晶的影響
4.5 全息高分子/液晶復合材料的應用
4.5.1 三維圖像存儲
4.5.2 傳感器
4.5.3 電可調光柵
4.5.4 電可調激光器
4.6 全息高分子/液晶復合材料的發展展望
參考文獻
第5章 全息高分子/納米粒子復合材料
5.1 全息高分子/納米粒子復合材料的成型原理
5.2 全息高分子/納米粒子復合材料的組成
5.2.1 單體
5.2.2 納米粒子
5.3 全息高分子/納米粒子復合材料的性能參數
5.3.1 相分離程度
5.3.2 體積收縮率
5.4 全息高分子/納米粒子復合材料的結構與性能調控
5.4.1 單體的影響
5.4.2 納米粒子的影響
5.4.3 光引發阻聚劑的影響
5.5 全息高分子/納米粒子復合材料的應用
5.5.1 三維圖像存儲
5.5.2 高密度數據存儲
5.5.3 光學防偽
5.5.4 中件
5.6 全息高分子/納米粒子復合材料的發展展望
參考文獻
第6章 全息高分子/液晶/納米粒子復合材料
6.1 全息高分子/液晶/納米粒子復合材料的成型原理
6.2 全息高分子/液晶/納米粒子復合材料的組成
6.3 全息高分子/液晶/納米粒子復合材料的分類
6.3.1 全息高分子/液晶/零維納米粒子復合材料
6.3.2 全息高分子/液晶/一維納米粒子復合材料
6.3.3 全息高分子/液晶/二維納米粒子復合材料
6.4 全息高分子/液晶/納米粒子復合材料的發展展望
參考文獻
第7章 二階反應型全息高分子材料
7.1 二階反應型全息高分子材料的成型原理
7.2 二階反應型全息高分子材料的組成與制備
7.2.1 菲醌-聚甲基丙烯酸甲酯體繫
7.2.2 環氧/乙烯基單體體繫
7.2.3 聚氨酯/丙烯酸酯體繫
7.2.4 硫醇-丙烯酸酯/硫醇-烯丙基醚體繫
7.2.5 硫醇-丙烯酸酯/硫醇-炔丙基醚體繫
7.2.6 聚二甲基硅氧烷/二苯甲酮體繫
7.3 二階反應型全息高分

本書為“高性能高分子材料叢書”之一。全息高分子材料屬高分子科學與光學、材料學的交叉領域,是化學和材料科學的研究前沿。全書共分8章。首先簡要介紹全息技術及其在三維顯示、高密度數據存儲、全息防偽等高新技術領域的應用,重點介紹典型的全息記錄材料及其主要性能參數。然後從材料制備原理、組成、結構與性能調控、應用與展望等方面,繫統介紹模壓全息高分子材料、全息光折變高分子材料、全息高分子液晶復合材料、全息高分子納米粒子復合材料、全息高分子液晶/納米粒子復合材料、二階反應型全息高分子材料,最後對含枝狀高分子離子液體、鋰鹽、二炔、杜瓦苯和光致異構分子的新型全息高分子材料進行介紹。 本書可供高分子科學與工程、材料化學與物理、光學工程、液晶、傳感器、顯示技術、信息存儲以及防偽技術等領域的科技工作者參考,也可作為高等學校化學、材料科學與工程、光學工程信息工程及相關專業研究生與高年級本科生的教材。