作 者:楊鐵軍 主編
定 價:78
出 版 社:知識產權出版社
出版日期:2016年06月01日
頁 數:308
裝 幀:平裝
ISBN:9787513042949
●第1章概況
●1.1研究背景
●1.1.1技術發展概況
●1.1.2產業現狀
●1.1.3行業需求
●1.2研究對像和方法
●1.2.1研究對像
●1.2.2研究方法
●1.2.3相關事項和約定
●第2章CMOS圖像傳感器
●2.1CMOS圖像傳感器專利總體態勢
●2.1.1申請趨勢
●2.1.2原創/目標國或地區分布
●2.1.3申請人分析
●2.2重要申請人——索尼
●2.2.1申請趨勢
●2.2.2產品相關核心專利布局
●2.2.3堆疊式背照技術
●2.2.4索尼專利申請撰寫策略
●2.3背照式CMOS圖像傳感器
●部分目錄
本書是新型傳感器行業的專利分析報告。報告從該行業的專利(靠前、國外)申請、授權、申請人的已有專利狀態、其他優選國家的專利狀況、同領域靠前企業的專利壁壘等方面入手,充分結合相關數據,展開分析,並得出分析結果。本書是了解該行業技術發展現狀並預測未來走向,幫助企業做好專利預警的推薦工具書。
序
知識產權制度作為激勵創新的基本保障,將在供給側結構性改革中發揮越來越重要的作用,加強知識產權保護和運用是“十三五”的重中之重。專利分析作為專利運用的基礎,是實現專利價值、發揮創新引領作用的有效方式。
國家知識產權局“專利分析普及推廣項目”在“十二五”期間完成了48項產業專利分析研究,在專利與技術、專利與市場、專利與企業發展等方面不斷對分析方法作出有益的嘗試,形成了一套科學、規範的專利分析方法。《產業專利分析報告》叢書的出版受到了社會各界的歡迎,對相關產業的發展起到了推動作用。
在“十三五”開局之年,《產業專利分析報告》(第39~48冊),著眼於成果的實際應用效果,致力於解決迫切的產業需求,適度預測技術發展,精心為廣大讀者奉獻了項目的近期新研究成果。衷心希等