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  • 現代材料分析方法
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    【優惠價】
    959-1390
    【作者】 施德安,任小明 
    【所屬類別】 圖書  工業技術  一般工業技術 
    【出版社】科學出版社 
    【ISBN】9787030722782
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    內容介紹



    開本:16開
    紙張:膠版紙
    包裝:平裝膠訂

    是否套裝:否
    國際標準書號ISBN:9787030722782
    作者:施德安,任小明

    出版社:科學出版社
    出版時間:2023年11月 

        
        
    "

    內容簡介
    本書是關於材料分析方法的教材,全書共分四篇14章:第1章是緒論,概述目前材料研究領域的各種表征方法;第2~14章分別介紹紅外光譜和拉曼光譜、紫外-可見光譜、質譜、核磁共振波譜、X射線衍射技術、X射線光電子能譜、電子顯微分析基礎、透射電子顯微鏡、掃描電子顯微鏡、X射線能譜儀、熱重分析技術、差示掃描量熱分析技術、動態力學熱分析技術的相關理論知識和應用案例。
    目錄
    目錄
    前言
    第1章緒論1
    1.1材料的性能1
    1.2材料性能微觀本質及影響因素3
    1.2.1材料性能的微觀本質3
    1.2.2材料性能的影響因素3
    1.3材料結構分析方法4
    1.3.1化學成分分析5
    1.3.2微觀結構測定6
    1.3.3顯微形態表征7
    1.4分析方法的選擇7
    1.5分析實例簡述8
    參考文獻9
    篇波譜分析技術
    第2章紅外光譜和拉曼光譜13
    2.1紅外光譜的基本原理13
    2.1.1化學鍵的振動13
    2.1.2分子振動與紅外光譜14
    2.1.3紅外光譜的特點及譜圖16
    2.2紅外光譜儀19
    2.2.1紅外光譜儀的發展19
    2.2.2傅裡葉變換紅外光譜儀的工作原理19
    2.2.3傅裡葉變換紅外光譜儀的特點20
    2.2.4紅外光譜附件20
    2.3紅外光譜樣品制備22
    2.3.1制樣時需注意的問題22
    2.3.2固體樣品的制備22
    2.3.3液體樣品的制備24
    2.3.4氣體樣品的制備24
    2.4紅外光譜特征頻率24
    2.4.1紅外光譜特征頻率區域劃分24
    2.4.2影響基團振動頻率的因素25
    2.4.3紅外光譜吸收強度及其影響因素30
    2.5紅外光譜圖的解析32
    2.5.1紅外光譜解析方法32
    2.5.2標準紅外光譜圖及檢索33
    2.5.3紅外光譜一般解析步驟34
    2.6有機化合物基團的特征吸收36
    2.6.1烷烴和環烷烴36
    2.6.2烯烴38
    2.6.3炔烴39
    2.6.4芳香烴40
    2.6.5醇和酚41
    2.6.6醚43
    2.6.7酮44
    2.6.8醛44
    2.6.9羧酸45
    2.6.10羧酸酯46
    2.6.11羧酸酐47
    2.6.12酰鹵47
    2.6.13胺及其鹽48
    2.6.14酰胺49
    2.6.15硝基化合物50
    2.6.16含鹵素化合物50
    2.6.17磷酸酯51
    2.6.18有機硅化合物52
    2.7紅外光譜在材料研究領域中的應用及案例53
    2.7.1紅外光譜在高分子材料研究中的應用53
    2.7.2紅外光譜在材料表面研究中的應用57
    2.7.3紅外光譜在無機材料研究中的應用57
    2.7.4紅外光譜在有機金屬化合物研究中的應用57
    2.8紅外光譜新技術的應用及案例58
    2.8.1時間分辨光譜的應用58
    2.8.2變溫紅外光譜法的應用60
    2.8.3紅外光譜差譜技術的應用61
    2.8.4紅外衰減全反射技術的應用62
    2.8.5氣相色譜-紅外光譜聯用技術63
    2.8.6熱重分析-紅外光譜聯用技術63
    2.9拉曼光譜簡介64
    2.9.1光的散射64
    2.9.2拉曼光譜選律66
    2.9.3拉曼光譜的特征譜帶及強度66
    2.9.4拉曼光譜儀和制樣技術67
    2.9.5拉曼光譜在材料研究中的應用及案例67
    2.10紅外光譜分析技術的應用進展73
    參考文獻74
    習題74
    第3章紫外-可見光譜77
    3.1紫外-可見光譜基礎知識77
    3.1.1紫外-可見吸收的產生77
    3.1.2電子能級躍遷及吸收帶類型78
    3.1.3紫外-可見光譜中常用的名詞術語80
    3.1.4朗伯-比爾定律81
    3.2影響紫外-可見光譜的因素82
    3.2.1共軛效應82
    3.2.2超共軛效應83
    3.2.3立體效應83
    3.2.4溶劑效應84
    3.2.5pH的影響85
    3.3紫外-可見光譜儀及測試技術86
    3.3.1紫外-可見光譜儀構造及工作原理86
    3.3.2紫外-可見光譜儀主要性能指標90
    3.3.3樣品測試類型及範圍90
    3.3.4樣品制備與測試方法91
    3.4各類化合物的紫外-可見光譜92
    3.4.1飽和烴化合物92
    3.4.2簡單的不飽和化合物93
    3.4.3烯烴94
    3.4.4羰基化合物96
    3.4.5芳香族化合物98
    3.4.6含氮化合物101
    3.4.7無機化合物101
    3.5紫外-可見光譜的應用102
    3.5.1化合物的鋻定102
    3.5.2化合物的定量分析103
    3.5.3有機化合物的結構推測105
    3.5.4氫鍵強度的測定106
    3.5.5聚合物研究中的應用106
    3.5.6純度檢驗107
    3.6紫外-可見光譜的新應用107
    3.6.1無機材料的帶隙測定107
    3.6.2薄膜材料的折射率及膜厚測量107
    3.6.3原位變溫及光照測量111
    3.6.4參比法測試熒光物質的量子產率111
    參考文獻112
    習題112
    第4章質譜114
    4.1質譜基礎知識114
    4.1.1質譜簡介及特點114
    4.1.2質譜儀基本構造及工作原理114
    4.1.3質譜儀主要性能指標116
    4.1.4樣品制備技術117
    4.1.5樣品測試方法118
    4.1.6質譜圖及常用名詞術語118
    4.1.7質譜中的離子類型119
    4.2離子裂解機理121
    4.2.1離子的單分子裂解121
    4.2.2離子豐度的影響因素122
    4.3有機質譜中的裂解反應123
    4.3.1自由基中心引發的a斷裂反應124
    4.3.2電荷中心引發的i斷裂反應124
    4.3.3環狀結構的裂解反應125
    4.3.4自由基中心引發的麥氏重排反應126
    4.3.5偶電子離子氫的重排127
    4.4常見各類化合物的質譜127
    4.4.1烴類127
    4.4.2醇類129
    4.4.3酚類130
    4.4.4醚類131
    4.4.5醛、酮類132
    4.4.6羧酸類132
    4.4.7酯132
    4.4.8酸酐133
    4.4.9酰胺134
    4.4.10胺類135
    4.4.11硝基化合物135
    4.4.12腈類135
    4.4.13硫醇和硫醚類136
    4.4.14鹵化物136
    4.5質譜的解析及應用138
    4.5.1質譜的解析步驟138
    4.5.2常見化合物的應用示例解析141
    4.6質譜的新技術及應用144
    4.6.1色譜-質譜聯用儀及其應用144
    4.6.2電感耦合等離子體質譜儀145
    參考文獻146
    習題147
    第5章核磁共振波譜152
    5.1核磁共振波譜基礎知識152
    5.1.1核磁共振的基本原理152
    5.1.2核磁共振的化學位移及其影響因素155
    5.1.3自旋耦合161
    5.1.4核磁共振碳譜166
    5.1.5二維核磁共振173
    5.2核磁共振波譜儀的結構及工作原理177
    5.2.1核磁共振波譜儀的組成及超導磁體177
    5.2.2核磁共振波譜儀工作原理179
    5.2.3核磁共振波譜測試的制樣技術179
    5.3核磁共振波譜在材料分析中的應用181
    5.4核磁共振波譜測試案例圖譜解析185
    5.4.11H NMR測試案例圖譜解析185
    5.4.213C NMR測試案例圖譜解析187
    5.4.319F NMR、31P NMR等測試解析188
    參考文獻190
    習題191
    第二篇X射線分析技術
    第6章X射線衍射技術197
    6.1X射線衍射基本原理197
    6.1.1晶體結構基礎197
    6.1.2晶向與晶面201
    6.1.3六方晶繫中的晶向指數與晶面指數202
    6.1.4倒易空間203
    6.1.5布拉格公式205
    6.1.6原子散射因子207
    6.1.7結構因子208
    6.1.8多重因子210
    6.1.9角因子210
    6.2X射線衍射儀基本結構211
    6.2.1X射線光源211
    6.2.2X射線光譜213
    6.2.3X射線衍射光路214
    6.2.4X射線探測器218
    6.3X射線衍射基本測試方法與案例220
    6.3.1粉末衍射(θ-2θ掃描)220
    6.3.2晶粒尺寸的測定225
    6.3.3搖擺曲線225
    6.3.4單晶取向關繫與織構測定226
    6.3.5倒易空間掃描228
    6.3.6掠入射X射線衍射230
    6.3.7單晶衍射及結構解析231
    6.4Rietveld結構精修233
    6.4.1Rietveld結構精修的基本原理233
    6.4.2Rietveld結構精修的策略與步驟235
    6.4.3Rietveld結構精修典型應用實例236
    6.5X射線反射測試原理與應用238
    6.5.1X射線反射基本原理238
    6.5.2X射線反射測試的數據擬合方法239
    6.6小角X射線散射分析技術241
    6.6.1SAXS與XRD分析的區別241
    6.6.2SAXS的應用範圍242
    6.6.3SAXS的基本理論242
    6.6.4SAXS在納米粒子中的應用243
    6.6.5SAXS在聚合物結晶性能上的應用245
    6.6.6SAXS其他分析方法247
    6.7特殊應用案例247
    6.7.1晶格常數測定與誤差分析方法247
    6.7.2位錯密度與微觀應變250
    6.7.3固溶體固溶度與有序度測定251
    參考文獻254
    習題255
    第7章X射線光電子能譜256
    7.1XPS基本原理和專業術語256
    7.1.1光電效應256
    7.1.2XPS工作原理256
    7.1.3原子能級的劃分258
    7.1.4信息深度259
    7.2X射線光電子能譜儀結構259
    7.2.1快速進樣室260
    7.2.2X射線源260
    7


     
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