●章低溫等離子體蝕刻技術發展史
●1.1絢麗多彩的等離子體世界
●1.2低溫等離子體的應用領域
●1.3低溫等離子體蝕刻技術混沌之初
●1.4低溫等離子體蝕刻技術世紀初的三國演義
●1.5三維邏輯和存儲器時代低溫等離子體蝕刻技術的變遷
●1.6華人在低溫等離子體蝕刻機臺發展中的卓越貢獻
●1.7未來低溫等離子體蝕刻技術展望
●參考文獻
●第2章低溫等離子體蝕刻簡介
●2.1等離子體的基本概念
●2.2低溫等離子體蝕刻基本概念
●2.3等離子體蝕刻機臺簡介
●2.3.1電容耦合等離子體機臺
●2.3.2電感耦合等離子體機臺
●2.3.3電子回旋共振等離子體機臺
●2.3.4遠距等離子體蝕刻機臺
●2.3.5等離子體邊緣蝕刻機臺
●2.4等離子體先進蝕刻技術簡介
●2.4.1等離子體脈衝蝕刻技術......
內容簡介
本書共9章,基於公開文獻多方面地介紹了低溫等離子體蝕刻技術在半導體產業中的應用及潛在發展方向。以低溫等離子體蝕刻技術發展史開篇,對傳統及已報道的優選等離子體蝕刻技術的基本原理做相應介紹,隨後是占據了本書近半篇幅的邏輯和存儲器產品中等離子體蝕刻工藝的深度解讀。此外,還詳述了邏輯產品可靠性及良率與蝕刻工藝的內在聯繫,聚焦了特殊氣體及特殊材料在等離子體蝕刻方面的潛在應用。很後是優選過程控制技術在等離子體蝕刻應用方面的重要性及展望。本書可以作為從事等離子體蝕刻工藝研究和應用的研究生和工程技術人員的參考書籍。