產品名稱：線性集成電路設計第三版 是否是套裝：否 書名：線性集成電路設計第三版 線性集成電路設計第三版 代碼：49 出版社名稱：科學出版社 出版時間：2010年08月 作者：（印）D.Roy Choudhury Shail B.Jain （印）D.Roy 譯者：陳力穎 黃曉宗 陳力穎 開本：5 ISBN編號：9787030274311
" 線性集成電路設計第三版 作 者:（印）D.Roy Choudhury Shail B.Jain 著作 陳力穎 黃曉宗 譯者  定 價:49 出 版 社:科學出版社 裝 幀:平裝 ISBN:9787030274311  ●第1章 集成電路制造工藝
● 1.1 簡介
● 1.2 分類
● 1.3 IC芯片面積和電路復雜度
● 1.4 單片集成電路技術基礎
● 1.5 基本的平面工藝
● 1.6 典型電路的制造
● 1.7 集成電路中的有源和無源器件
● 1.8 場效應晶體管的制作
● 1.9 薄膜和厚膜工藝
● 1.10 技術發展趨勢
● 總結
● 復習題
●第2章 運算放大器
● 2.1 簡介
● 2.2 運算放大器的基本信息
● 2.3 理想的運算放大器
● 2.4 運算放大器的內部電路
● 2.5 運算放大器芯片舉例
● 2.6 場效應晶體管(FET)運算放大器......  內容簡介  本書靠前版寫於1991年，多次再版，重印，是一本線性集成電路設計課程的經典教材。
本書共10章；。詳細介紹了IC的生產工藝、741繫列運放的應用、555計時器、565 PLL、線性穩壓器IC、78／79XX、723、A／D和D／A轉換器，采用741的有源濾波器、開關電容濾波器以及OTA等器件的特性、功能、結構及設計方法。本書內容闡述簡明扼要，條理清晰，各章都配有大量例題和習題，便於自學。
本書可作為高等院校電氣工程、計算機工程等相關專業師生的參考用書，也可供相關科研工作者及工程技術人員參考。
 光刻可以將很好微小的電路和器件的圖樣移植到硅晶圓上，在1cm×1C1TI的芯片上可以制造出多達10000隻晶體管。傳統的光刻工藝利用紫外線進行曝光，器件大小和線寬可以小至2um，但是隨著近期新X射線和電子束光刻技術的發展，器件尺寸已經能夠深入亞微米級的範圍（<1um）。
光刻涉及兩個過程：制備成像掩膜板和光刻蝕。
成像掩膜的制造工序——首先制備原圖，其次將其縮小。很初的芯片版圖或者原圖是在很終集成電路尺寸的數百倍下完成的，這是因為對一個微小的芯片而言，原圖越大，很終的掩膜就越準確。例如，工藝中經常要求制造一個寬約為1mn（25gm）的開口，顯然即使繪圖師用很細的素描筆也無法達到這樣的尺寸，因此繪圖時經常將該尺寸擴大500倍，這...... "
| 
