內容簡介

《薄膜結構X射線表征（第2版）》結合作者麥振洪等二十多年來的工作積累和靠前外近期新進展，繫統介紹應用X射線衍射和散射技術表征薄膜微結構的多種基本實驗裝置、實驗數據分析理論以及典型的薄膜微結構表征實例。全書分3篇（共19章）：靠前篇為基本實驗裝置（靠前～3章），主要介紹X射線源、X射線準直和單色化、各種探測器以及薄膜X射線衍射儀和表面／界面散射裝置。第2篇為基本理論（第4～10章），介紹薄膜X射線衍射和散射實驗數據分析所用的相關理論，包括用於薄晶體或小晶體多層膜和金屬多層膜的X射線衍射運動學理論；用於近完美多層膜、半導體超品格和多量子阱的X射線衍射動力學理論；用於原子密度和品格參數很接近的金屬多層膜的X射線異常衍射精細結構理論；用於薄膜和多層膜表面與界面分析的X射線反射、漫散射理論以及掠入射衍射理論。基本覆蓋了目前應用X射線衍射和散射技術研究薄膜結構所需要的理論。第3篇為薄膜微結構表征（靠前......