●章幸福生活從美麗與微觀開始
001展現繽紛色彩的顏料用微小粉末描繪美麗世界
002復制美麗——相片彩色相片與數碼相機
003薄膜技術使機器人不斷進化利用薄膜材料與計算機進行精密制備
004創造五種感官視覺、聽覺、嗅覺、味覺與觸覺的創造
005制造人工智能
006我們身邊的電子產品都在使用薄膜
007利用不分解的壓延技術,可以薄到什麼程度
008制造薄膜與制作精細圖案
COLUMN真空的含義
第2章制備薄膜的重要環境條件——真空
009真空——壓強低於大氣壓的空間狀態
010真空的單位與壓強的單位：帕斯卡（Pa）
011抽出和吸附——真空泵的分類
012真空的分析和測量真空計
013真空裝置的制造方法
COLUMN質量瞬移
第3章薄膜的制備
014薄膜的形成——先氣化,再固化沉積
015四種氣化源
016單層生長與形核長大薄膜的生長①
017薄膜內部缺陷薄膜的生長②
018僅有薄膜還不夠薄膜與基板的結合
019目標：單晶薄膜
COLUMN出身和教育同樣重要
第4章薄膜特有的性質
020薄膜的密度和厚度會隨時間減小
021薄膜電阻的變化比體材料r />022熱穩定性降低通過時效處理加以克服
COLUMN薄膜和基板的連接
第5章增強基板與薄膜結合的技術
023制膜的基礎：平整的基板
024前期處理：使基板表面完全裸r />025前期處理的後工序：干燥
026制備附著強度更強的薄膜
027改變氣化源、增加附著強度
028薄膜與基板的相合性更為重要
029著陸點：險峻的山地
030得到希望的薄膜組成
031制造用於大面積集成電路的非晶薄膜
032電遷移斷線及其解決方法
COLUMN太陽之子——等離子體
第6章等離子體在薄膜制備中的重要性
033等離子體的神奇之處及其應用
034通過放電獲得等離子體
035低氣壓（良好真空）下的磁控放電
036產生薄膜用等離子體的五種方法
037薄膜制備的難題——塵埃
COLUMN望遠鏡和照相機視場變亮的奧秘
第7章從古代沿用至今的蒸鍍法
038蒸發源
039加工等厚膜的方法
040離子鍍的使用
041進一步發揮離子的作用
042防止蒸鍍材料與薄膜間的成分變化激光沉積法
043制作透明導電的薄膜透明導電薄膜的蒸鍍方法
COLUMN活學活用
第8章大面積氣化源、適於批量生產的濺射法
044濺射率是由離子能量和薄膜材料的種類決定的
045濺射產生的原子遵循餘弦法則且速度非常快
046濺射的主要方式
047以低電壓、定壓（高真空）為目標的磁控濺射
048支撐半導體IC高集成度發展的鋁合金濺射
049利用反應濺射制作高性能電阻膜
050用濺射法制作氧化物高溫超導膜
051低電壓下制造透明導電膜（氧化物）ITO
052薄膜加工的過渡——從平面成膜到微孔成膜
053利用離子進行超微細孔的填埋
054向高真空、無氬氣濺射的過渡
COLUMN神奇的過程——從氣體到薄膜
第9章由氣體制作薄膜的氣相沉積法
055氣體向固體的轉變：薄膜的氣相沉積
056很多的CVD方法已被實用化
057CVD法制備IC中至關重要的硅繫薄膜
058高清彩色電視用的硅薄膜
059高誘電率薄膜和低誘電率薄膜的制作
060用氣相沉積法制備金屬導體薄膜
061表面改性法制備氧化薄膜、氮化薄膜
COLUMN從水（液體）中提取薄膜（固體）
0章在液體中制作鍍膜
062鍍膜技術的發展
063液相鍍膜和真空薄膜中的核生長
0精密鍍膜在電氣領域的應用
COLUMN用世界上小的行切削加工
1章將薄膜加工成電路、晶體管等的蝕刻技術
065蝕刻法制備圖樣：在正確的位置加工正確的形狀
066用氣體離子進行蝕刻
067關鍵的一步——等離子體的制備
068反應氣體是重要的
069決定蝕刻的條件
070利用極細離子束進行故障修理
071利用CMP進行平坦化處理
072無CMP的平坦化技術
COLUMN向偉大的夢想前進！
2章薄膜發展的無限可能性
073操控原子，制造未來儀器
074薄膜——帶動世界通信網絡發展
075用微動同步器挽救生命
076生物計算機的使用
參考文獻
譯後記

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