基本信息

書名:國之重器出版工程 TFT-LCD原理與設計

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作者:馬群剛 著

出版社：電子工業出版社

出版日期：2020-12-01

ISBN：9787121400438

字數：

頁碼：616

版次：2

裝幀：平裝

開本：16開

商品重量：

編輯推薦

TFT-LCD產業是資金密集型和技術密集型產業，需要大量懂技術、有經驗的工程師在一線維護工廠的運行、開發有競爭力的產品。TFT-LCD產業的發展歷史證明，技術人員配備越全面，產業發展勢頭就越強大。我國進入TFT-LCD產業較晚，加上國外企業的技術封鎖，因此缺少TFT-LCD學習資料。鋻於此，作者於十年前把自己在TFT-LCD行業學習、工作的筆記進行了整理，編寫了《TFT-LCD原理與設計》一書。該書內容基於TFT-LCD工廠生產實踐，將科學原理與工程應用相結合，全面繫統地闡述了TFT-LCD的原理與設計。 n
本書版出版發行的這十年，也是我國TFT-LCD產業快速崛起的十年。在我國TFT-LCD產業從零起步時，作者從半導體集成電路產業轉入了TFT-LCD產業，見證了我國TFT-LCD產業從無到有，再到目前顯示面板出貨規模位居世界的整個過程。TFT-LCD作為半導體顯示產業，沒有科技創新就無法推動產業發展，沒有技術積累就無法推動科技創新。根據TFT-LCD產業的發展現狀，結合十年來讀者的反饋，作者更新了版的內容。

內容提要

本書將科學原理與工程實踐相結合，繫統地介紹TFT-LCD的基本原理與功能設計。全書共12章，分三大部分。部分介紹TFT-LCD的基本概念，TFT器件的工作原理與液晶的基本物理特性；第二部分介紹TFT-LCD的材料技術與工藝技術；第三部分介紹TN/IPS/VA顯示屏原理與設計、TFT-LCD電路驅動原理與設計、TFT-LCD模組結構原理與設計、TFT-LCD高品質和低成本設計、半透過型TFT-LCD原理與設計。本書在介紹TFT-LCD基本原理的基礎上，全面地介紹了近幾年發展起來的TFT-LCD新技術、新應用。
本書可作為高校、科研單位、企業、等學習、應用和發展TFT-LCD顯示技術的重要參考資料。

目錄

目錄 n
第 1章 緒論 1 n
1．1 TFT-LCD的功能結構 1 n
1．2 TFT-LCD的基本概念 5 n
1．2．1 與物理相關的概念 5 n
1．2．2 與光學相關的概念 9 n
1．3 TFT-LCD的彩色顯示 13 n
1．3．1 光的顏色和亮度 13 n
1．3．2 色的坐標和溫度 16 n
1．3．3 彩色顯示的基本概念 21 n
本章參考文獻 24 n
第 2章 TFT器件技術 28 n
2．1 TFT器件基礎 28 n
2．1．1 TFT器件的種類與結構 28 n
2．1．2 TFT器件的開關特性 30 n
2．1．3 TFT開關特性的結構設計 34 n
2．2 a-Si TFT技術 39 n
2．2．1 a-Si半導體特性 39 n
2．2．2 a-Si TFT開關特性 42 n
2．2．3 a-Si TFT工藝技術 47 n
2．2．4 a-Si TFT開關的工藝設計 51 n
2．3 LTPS TFT技術 54 n
2．3．1 LTPS TFT的分類 55 n
2．3．2 LTPS 半導體特性 59 n
2．3．3 LTPS TFT器件特性 61 n
2．3．4 LTPS TFT工藝技術 66 n
2．4 IGZO TFT技術 69 n
2．4．1 IGZO半導體特性 70 n
2．4．2 IGZO TFT器件特性 73 n
2．4．3 IGZO TFT可靠性 75 n
本章參考文獻 80 n
第3章 液晶顯示基礎 86 n
3．1 液晶結構 86 n
3．2 液晶光學 89 n
3．2．1 液晶的光學各向異性 89 n
3．2．2 液晶的偏光特性 91 n
3．3 液晶電學 93 n
3．3．1 液晶的介電各向異性 93 n
3．3．2 液晶的V-T特性 95 n
3．3．3 液晶的交流驅動 96 n
3．4 液晶力學 97 n
3．4．1 液晶的黏彈性 97 n
3．4．2 液晶動態電容效應 99 n
3．5 液晶材料 100 n
3．5．1 液晶分子結構與特性 100 n
3．5．2 液晶材料的特性要求 104 n
3．6 液晶顯示模式 106 n
3．6．1 TN顯示模式 106 n
3．6．2 IPS顯示模式 108 n
3．6．3 VA顯示模式 109 n
本章參考文獻 110 n
第4章 TFT-LCD材料技術 113 n
4．1 玻璃基板 113 n
4．1．1 玻璃基板的制造技術 113 n
4．1．2 玻璃基板的使用要求 116 n
4．2 導電薄膜 119 n
4．2．1 金屬導電薄膜 119 n
4．2．2 ITO透明導電薄膜 122 n
4．3 配向膜 125 n
4．3．1 配向膜的材料技術 125 n
4．3．2 配向膜的特性要求 127 n
4．4 封框膠 130 n
4．5 間隙子 132 n
4．6 CF基板 135 n
4．6．1 CF的材料技術 136 n
4．6．2 CF的特性要求 140 n
4．7 偏光板 144 n
4．7．1 偏光板概述 144 n
4．7．2 相位差板 148 n
4．7．3 寬視角補償膜 151 n
4．8件 155 n
4．8．1器件 155 n
4．8．2 PCB基板 155 n
4．8．3 驅動IC封裝方式 157 n
4．9 背光源 159 n
4．9．1 光源 159 n
4．9．2 光學膜片 162 n
4．9．3 導光板 166 n
本章參考文獻 168 n
第5章 TFT-LCD工藝技術 173 n
5．1 陣列工藝技術 173 n
5．1．1 陣列工藝流程 174 n
5．1．2 玻璃基板洗淨 177 n
5．1．3 PVD成膜 179 n
5．1．4 PECVD成膜 182 n
5．1．5 光刻膠處理 185 n
5．1．6 曝光處理 189 n
5．1．7 濕刻 193 n
5．1．8 干刻 196 n
5．1．9 陣列檢查工程 199 n
5．2 成盒工藝技術 201 n
5．2．1 配向膜處理 202 n
5．2．2 封框膠塗布 205 n
5．2．3 液晶滴下 207 n
5．2．4 真空貼合 209 n
5．2．5 封框膠硬化 212 n
5．2．6 玻璃切斷 214 n
5．2．7 偏光板貼附 217 n
5．2．8 成盒工程檢查 219 n
5．3 模塊工藝技術 221 n
5．3．1 外引腳貼合 221 n
5．3．2 信號處理基板壓接 225 n
5．3．3 模塊組裝 227 n
5．3．4 老化實驗 228 n
5．3．5 模塊工程檢查 230 n
本章參考文獻 231 n
第6章 TN顯示原理與設計 235 n
6．1 TN顯示原理 235 n
6．1．1 TN顯示的透光率 235 n
6．1．2 TN顯示模式的選擇 238 n
6．1．3 TN顯示的光學原理 240 n
6．1．4 TN顯示的電學原理 243 n
6．2 TN像素工作原理 246 n
6．2．1 TN像素基本結構 246 n
6．2．2 像素中的電容效應 249 n
6．2．3 配線延遲效應 253 n
6．2．4 灰階電壓寫入與保持 257 n
6．2．5 TN顯示的綜合效應 259 n
6．3 15XGA的顯示屏設計 262 n
6．3．1 預設計 262 n
6．3．2 TFT側像素設計 267 n
6．3．3 彩膜側像素設計 272 n
6．3．4 顯示屏周邊設計 277 n
6．3．5 顯示屏用標記設計 284 n
6．4 15XGA的基板相關設計 288 n
6．4．1 基板用TEG與標記設計 288 n
6．4．2 UV掩膜版和UV基板設計 292 n
6．4．3 配向膜印刷版設計 296 n
本章參考文獻 298 n
第7章 IPS顯示原理與設計 302 n
7．1 IPS顯示原理 302 n
7．1．1 IPS顯示的透光率 302 n
7．1．2 IPS顯示的光學原理 306 n
7．1．3 IPS顯示的電學原理 310 n
7．2 IPS技術的發展 312 n
7．2．1 S-IPS顯示技術 313 n
7．2．2 AS-IPS顯示技術 316 n
7．2．3 FFS顯示技術 317 n
7．2．4 AFFS顯示技術 321 n
7．3 32HD IPS顯示屏設計 324 n
7．3．1 IPS像素設計原理 324 n
7．3．2 32HD像素設計 329 n
7．3．3 32HD顯示屏設計 334 n
7．4 32UHD FFS顯示屏設計 337 n
7．4．1 AFFS像素設計原理 337 n
7．4．2 32UHD像素設計 339 n
7．4．3 32UHD顯示屏設計 343 n
7．5 IPS殘像的機制與對策 346 n
7．5．1 IPS殘像的機制 347 n
7．5．2 離子型不純物分析 351 n
7．5．3 殘留DC分析 356 n
7．5．4 線殘像的機制與對策 361 n
本章參考文獻 363 n
第8章 VA顯示原理與設計 366 n
8．1 VA顯示原理 366 n
8．1．1 VA顯示的透光率 366 n
8．1．2 VA顯示的光學原理 368 n
8．1．3 VA顯示的電學原理 370 n
8．2 VA技術的發展 373 n
8．2．1 MVA顯示技術 373 n
8．2．2 PVA顯示技術 377 n
8．2．3 CPA顯示技術 380 n
8．2．4 PSVA顯示技術 386 n
8．2．5 UV2A顯示技術 388 n
8．3 VA的色偏機理與對策 390 n
8．3．1 VA的色偏機理與評價 390 n
8．3．2 色偏的8疇改善技術 394 n
8．3．3 色偏的其他改善技術 399 n
8．4 98QUHD顯示屏設計 401 n
8．4．1 98QUHD的傳統VA像素設計 402 n
8．4．2 98QUHD的光配向VA像素設計 407 n
8．4．3 98QUHD顯示屏設計 410 n
本章參考文獻 415 n
第9章 TFT-LCD驅動技術與設計 419 n
9．1 TFT-LCD驅動原理 419 n
9．1．1 驅動原理簡介 419 n
9．1．2 驅動方式 423 n
9．1．3 灰階增強技術 428 n
9．2 TFT-LCD電路技術 431 n
9．2．1 接口電路 432 n
9．2．2 電源電路 439 n
9．2．3 時序控制電路 444 n
9．2．4 數據驅動電路 451 n
9．2．5 掃描驅動電路 460 n
9．3 TFT-LCD電路設計 466 n
9．3．1 電路原理圖設計 466 n
9．3．2 PCB和COF版圖設計 473 n
9．3．3 COF設計 478 n
9．3．4 伽馬設計與調節 479 n
本章參考文獻 482 n
第 10章 TFT-LCD結構技術與設計 486 n
10．1 結構技術與設計概要 486 n
10．1．1 結構技術概要 486 n
10．1．2 結構設計概要 490 n
10．2 模組的結構設計 493 n
10．2．1 開路顯示屏結構設計 493 n
10．2．2 膠框設計 498 n
10．2．3 導光板設計 501 n
10．2．4 光學膜片設計 503 n
10．2．5 CCFL光源的結構設計 505 n
10．2．6 LED光源的結構設計 510 n
10．3 背光源的光學設計 512 n
10．3．1 光學設計基礎 513 n
10．3．2 亮度設計 516 n
10．3．3 亮度均勻性設計 517 n
10．3．4 光學品質設計 520 n
10．4 模組的力學設計 521 n
10．4．1 強度設計 522 n
10．4．2 散熱設計 527 n
10．4．3 防塵設計 529 n
10．5 模組的電學設計 530 n
10．5．1 EMI設計 530 n
10．5．2 絕緣耐壓設計 532 n
10．6 模組的其他設計 532 n
10．6．1 組裝設計 532 n
10．6．2 安全性設計 533 n
本章參考文獻 535 n
第 11章 高品質和低成本設計 539 n
11．1 面向光學規格的高品質設計 539 n
11．1．1 高亮度設計 539 n
11．1．2 高對比度設計 541 n
11．1．3 高響應速度設計 544 n
11．2 面向特殊畫質的高品質設計 548 n
11．2．1 閃爍機制與設計對策 548 n
11．2．2 串擾機制與設計對策 552 n
11．2．3 顯示不均的機制與設計對策 557 n
11．3 高合格率設計 563 n
11．3．1 工程檢查及相關設計 563 n
11．3．2 ESD改善設計 565 n
11．3．3 點缺陷修復設計 569 n
11．3．4 線缺陷修復設計 574 n
11．4 低成本設計 577 n
11．4．1 掩膜版消減技術 578 n
11．4．2 驅動IC消減技術 581 n
11．4．3 背光源零組件消減技術 588 n
本章參考文獻 590 n
第 12章 半透過型TFT-LCD設計 594 n
12．1 反射型TFT-LCD原理與設計 594 n
12．2 半透過型TFT-LCD原理與設計 597 n
12．3 半透過型TFT-LCD的反射光學設計 600 n
12．3．1 內反射光學設計 601 n
12．3．2 外反射光學設計 604 n
12．4 半透過型TFT-LCD的偏光光學設計 606 n
12．4．1 ECB常白模式的偏光光學設計 607 n
12．4．2 ECB常黑模式的偏光光學設計 612 n
本章參考文獻 614

作者介紹

馬群剛，浙江東陽人，理學博士，正高級工程師，電子科學技術委員會委員，長期從事集成電路與新型顯示領域的科技工作，在新型顯示方向有兩年海外學習經歷。主持或參與完成國家科研項目10餘項，發表學術論文30餘篇，申請發明專利70餘件，主編國之重器出版工程“新型顯示技術叢書”。

序言