作 者:林應欽 著 著
定 價:45
出 版 社:知識產權出版社
出版日期:2014年12月01日
頁 數:276
裝 幀:平裝
ISBN:9787513031332
本書從知識產權制度一體化的基礎、一體化的方式、一體化的內容、一體化的影響、一體化的限度等不同角度梳理出一個較為完整的知識產權制度一體化的理論框架,為我國知識產權戰略的實施提供建議和參考。
●導言
第一章知識產權制度一體化的基礎
第一節知識產權制度一體化的界定
一、知識產權制度一體化的定義
二、知識產權制度一體化的本質
第二節知識產權制度一體化的根據和機理
一、知識產權制度一體化的內在根據
二、知識產權制度一體化的外在根據
三、知識產權制度一體化的機理
第三節知識產權制度一體化的進程
一、知識產權制度一體化的萌芽階段
二、知識產權制度一體化的初級階段
三、知識產權制度一體化的發展階段
四、知識產權制度一體化的成熟階段
本章小結
第二章知識產權制度一體化的方式
第一節條約方式:強制性的一體化
一、條約方式的概述
二、條約方式的基礎
三、條約方式的評析
第二節示範法方式:導向性的一體化
一、示範法方式的應用
二、示範法方式的特點
三、示範法方式的得失
第三節共同體方式:超國家的一體化
一、共同體方式的層次結構
二、共同體方式的基礎及特征
三、共同體方式的利弊
第四節移植方式:水平式的―體化
一、移植方式的實踐
二、移植方式的基礎
三、移植方式的特點
四、移植方式的優劣
本章小結
第三章知識產權制度一體化的內容
第一節知識產權實體規範―體化
一、知識產權客體規範的一體化-
二、知識產權權利內容的一體化
三、知識產權保護期限的一體化
四、知識產權規範的一體化
第二節知識產權程序規範―體化
一、知識產權取得制度的一體化
二、知識產權維持制度的一體化
三、知識產權救濟制度的一體化
本章小結
第四章知識產權制度一體化的影響
第一節知識產權制度一體化的積極影響
一、對知識產權立法的影響
二、對國家利益的影響
三、對知識創新的影響
四、積極影響的總體評價
第二節知識產權制度一體化的消極影響
一、知識產權制度功能的異化
二、南北國家緊張關繫的加劇
三、公共健康危機的誘發
四、知識傳播和發展的遏制
第三節知識產權制度―體化的修正
一、知識產權制度一體化中的法治缺陷
二、知識產權制度一體化的校正
本章小結
第五章知識產權制度一體化的限度
第一節空間限度:知識產權地域性的分析
一、知識產權制度一體化與知識產權地域性的關繫
二、空間限度的現實性:知識產權地域性強化或弱化的討論
三、空間限度存在的必然性:知識產權地域性的成因分析
第二節結構限度:知識產權制度的分散化
一、條約的分散化:以“TRIPS-plus”為例
二、保護主題的分散化
三、利益主體的分散化
四、一體化與分散化的辯證統一
第三節發展限度:民族國家及其法律本土化
一、全球化背景下的民族國家
二、知識產權制度一體化中的民族主義
三、民族主義的表現方式——知識產權制度的本土化
四、知識產權制度本土化與一體化的關繫
本章小結
第六章我國與知識產權制度一體化
第一節我國參與知識產權制度―體化的實踐
一、我國參與知識產權制度一體化的基本狀況
二、我國參與知識產權制度一體化存在的缺陷
第二節我國應對知識產權制度一體化的法律理念
一、正義的理念
二、人權的理念
第三節我國應對知識產權制度―體化的基本策略
一、積極應對,塑造知識產權制度一體化中的主體角色
二、找準定位,加強對知識產權優勢領域的保護
三、提升能力,規制知識產權制度一體化中的民主
四、實施措施,爭取知識產權制度一體化向有利方向發展
本章小結
結語
主要參考文獻
一、主要專著
二、主要論文
三、辭書
四、其他文獻及資料
附錄縮略語表
後記
知識產權制度一體化,是指各國知識產權制度之間的差異性不斷縮小、同一性不斷增強的過程。知識經濟的蓬勃興起以及全球化的滾滾浪潮加速了知識產權制度一體化的步伐,認識和把握知識產權制度一體化的規律和方向成為各國推動知識經濟發展、迎接全球化挑戰的戰略任務。
林應欽著的《知識產權制度一體化問題研究》從不同的側面論述分析知識產權制度一體化,試圖梳理出一個較為完整的知識產權制度一體化的理論框架,為我國知識產權戰略的實施提供參考。
林應欽 著 著
林應欽,福建詔安人,1971年11月出生,法學博士,先後畢業於漳州師範學院、西南政法大學、廈門大學,現就職於廈門市司法局,主要從事律師制度、知識產權制度研究。
有學者認為,這一“性”規定不見於美國的《版權法》,而與美國《專利法》所要求的顯而易見性有些接近。1985年5月31日,日本頒布了《半導體集成電路的線路布局法》,該法在立法體例和內容上均以美國法為藍本,許多條款引用了美國法的規定,隻是它比美國法更具體、更詳細。然而,對於集成電路布圖設計的性是否應具有創新內容,日本法律對此沒有規定,因而從一般意義上理解,它不需要具有“創新性”的內容即可獲得保護。歐共體於1986年12月通過的《半導體布圖設計法律保護的理事會指令》對獲得保護的集成電路布圖設計規定其應具備性和不平常性。可見,日本除規定了設計應具性外,還應具備一定的創新性,這與美國的規定是一致的。在發展中國家中,如印度在2000年《半導體布圖設計法案》中同樣采用高於版權法中的“性”而低於專利法中“新穎性”要求的實質要件。也即在印度法律中,集成電路布圖設等