第1章 真空技術基礎
1.1 真空的基本知識
1.1.1 真空定義
1.1.2 真空度量單位
1.1.3 真空區域劃分
1.1.4 氣體與蒸氣
1.2 真空的表征
1.2.1 氣體分子運動論
1.2.2 分子運動的平均自由程
1.2.3 氣流與流導
1.3 氣體分子與表面的相互作用
1.3.1 踫撞於表面的分子數
1.3.2 分子從表面的反射
1.3.3 蒸發速率
1.3.4 真空在薄膜制備中的作用
習題
第2章 真空泵與真空規
2.1 真空泵
2.1.1 油封機械泵
2.1.2 擴散泵
2.1.3 吸附泵
2.1.4 濺射離子泵
2.1.5 升華泵
2.1.6 低溫冷凝泵
2.1.7 渦輪分子泵和復合渦輪泵
2.1.8 干式機械泵
2.2 真空測量儀器——總壓強計
2.2.1 麥克勞真空規
2.2.2 熱傳導真空規
2.2.3 電離真空計——電離規
2.2.4 蓋斯勒管
2.2.5 隔膜真空規
2.2.6 真空規的安裝方法
2.3 真空測量儀器——分壓強計
2.3.1 磁偏轉型質譜計
2.3.2 四極濾質器（四極質譜計）
習題
第3章 真空裝置的實際問題
3.1 排氣的基礎知識
3.2 材料的放氣
3.3 排氣時間的估算
3.4 實用的排氣繫統
3.3.1 離子泵繫統
3.3.2 擴散泵繫統
3.3.3 低溫冷凝泵-分子泵繫統
3.3.4 殘留氣體
3.5 檢漏
3.5.1 檢漏方法
3.5.2 檢漏的實際操作
3.6 大氣溫度與濕度對裝置的影響
3.7 烘烤用的內部加熱器
3.8 化學活性氣體的排氣
3.8.1 主要裝置及存在的問題
3.8.2 排氣繫統及其部件
習題
第4章 氣體放電和低溫等離子體
4.1 帶電粒子在電磁場中的運動
4.1.1 帶電粒子在電場中的運動
4.1.2 帶電粒子在磁場中的運動
4.1.3 帶電粒子在電磁場中的運動
4.1.4 磁控管和電子回旋共振
4.2 氣體原子的電離和激發
4.2.1 踫撞——能量傳遞過程
4.2.2 電離——正離子的形成
4.2.3 激發——亞穩原子的形成
4.2.4 圓復——退激發光
4.2.5 解離一一分解為單個原子或離子
4.2.6 附著——負離子的產生
4.2.7 復合——中性原子或原子團的形成
……
第5章 薄膜生長與薄膜結構
第6章 真空蒸鍍
第7章 離子鍍和離子束沉積
第8章 濺射鍍膜
第9章 化學氣相沉積（CVD）
第10章 干法刻蝕
第11章 平坦化技術
第12章 表面改性及超硬膜
第13章 能量及信號變換用薄膜與器件
第14章 半導體器件、記錄和存儲用薄膜技術與薄膜材料
第15章 平板顯示器中的薄膜技術與薄膜材料
第16章 太陽電池中的薄膜技術與薄膜材料
第17章 白光LED固體照明與薄膜技術
參考文獻
作者書繫